Influência do TiF4 na resistência adesiva ao cisalhamento de brackets ao esmalte
Nacionalidade: Portugal
Área científica: Ortodontia
2013/11/21 11:50 – 2013/11/21 11:20 | Auditório VIII
Resumo da apresentação
Introdução
O tetrafluoreto de titânio (TiF4) é um fluoreto que apesar de ainda se encontrar em fase experimental na área da saúde, já comprovou ter uma ação mais eficaz que a maioria dos fluoretos na prevenção da desmineralização do esmalte.
O TiF4 quando em contato com a superfície dentária reage química e fisicamente formando uma camada protetora no esmalte resistente à ação ácida. Por este motivo tem sido testado como método profilático em várias áreas da medicina dentária, nomeadamente na aplicação de selantes ou na adesão de brackets.
Objetivo
Avaliar e comparar a influência do tratamento do esmalte com solução de TiF4 na resistência adesiva ao cisalhamento de brackets.
Material e métodos
38 pré-molares humanos hígidos foram distribuídos aleatoriamente por dois grupos. A superfície do esmalte foi tratada da seguinte maneira: no grupo 1 com jato de óxido de alumínio seguida de ataque ácido e da aplicação de adesivo e no grupo 2, o procedimento foi igual ao do grupo anterior com a aplicação adicional da solução de TiF4 a 4%. As amostras foram submetidas ao teste de cisalhamento e à análise do índice de adesivo remanescente (IRA).
Resultados
O grupo 1 apresentou menor resistência ao cisalhamento (9,681 MPa) que o grupo 2 (16,252 MPa). O estudo estatístico permitiu verificar que a resistência adesiva no grupo 2 foi significativamente maior que no grupo 1 (p<0,001).
Conclusões
Os resultados permitiram concluir que o esmalte tratado com a solução de TiF4 a 4% aumenta significativamente a força de adesão do bracket ao esmalte.
Implicações clínicas
Após estudos mais detalhados sobre a aplicação humana da solução de TiF4, o respetivo uso clínico pode revelar-se vantajoso em dentes com particularidades histológicas ou com a anatomia alterada, caraterísticas que condicionam a força de adesão dos brackets ao esmalte.